淺談等離子熱噴涂-Y2O3氧化釔涂層

A: 隨著半導體顯示器工業的純熟與拓新，國內的蝕刻/刻蝕（etching）工程也在擴大。

蝕刻工程中，與等離子接觸的鋁合金、石英、陶瓷等零部件會因為被轟擊沖蝕而產生顆粒污染。這些顆粒污染會對關鍵零部件的質量以及產量造成重大影響。因為從設備表面釋放的顆粒會在晶片上產生缺陷，這種缺陷會導致晶片報廢。

為了保證刻蝕的強度，往往會選擇如CF4、SF6、O2、Cl2、HBr 等腐蝕氣體及等離子體。這些氣體會對零件表面產生強腐蝕作用。高密度等離子體沖蝕條件下，提高作業倉內關鍵零部件的耐腐蝕性是一個關鍵點。

傳統防護方法是采用鋁陽極氧化涂層，但缺點是涂層的抗沖蝕性能不高。

而氧化釔是目前應用最廣的耐等離子沖蝕材料。

在芯片刻蝕機腔體內壁表面噴涂一層0.15mm厚的氧化釔涂層，可有效避免腔體基材對硅片刻蝕的污染，同時刻蝕機的大修壽命可由15天延長到6個月。同時由于氧化釔具有良好的高溫穩定性能以及惡劣環境下的耐熱性能等，可用作高溫隔熱涂層材料，如用于硬質合金工業中石墨層的保護等。

氧化釔噴涂粉末材料在國際上已有廣泛應用，lumi-m公司也是于2009年開始粉末材料的研究開發工作，目前為止設立了半導體與顯示器熱噴涂的7條噴涂生產線。建立了專門的熱噴涂研究所。為了適應集成電路芯片刻蝕機與韓國各大LCD, 顯示器產業的需求，開發了適合等離子噴涂用的大顆粒氧化釔噴涂粉末。

釔作為稀土中的其中一種，用途極為廣泛。可供制作熒光材料、鐵氧體、單晶材料、光學玻璃、人造寶石、陶瓷和制備金屬釔等。但氧化釔粉末是不能直接用作熱噴涂粉末的。

為了保證涂層的抗沖蝕性能，則需要對氧化釔進行加工，也就是我們常說的造粒。

通過一系列工藝（噴霧燒結法），混合成漿、加熱塑性、定型篩選的工藝讓原本的氧化釔小顆粒（多為1um）聚合在一起，形成大的球形顆粒。

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粉末外觀形貌、粒度、雜質比重等。

很多廠家會標榜自己粉末純度高，達到5N，但是選取粉末時不可只看純度就判定粉末的質量。

1：產品檢測報告 2. SEM電鏡圖

首先看產品檢測報告的理由是先弄清粉末雜質比重。

不熟悉看產品檢測報告的朋友，可能只去看最上面標注的TREO

本文來源：http://xy-pt.cn/news01.php?id=274